EUV マスクはどのような素材で作られていますか?

EUV のマスクは反射型ですが、一般的なマスクは透過型です。なぜこのようなことが起こるのでしょうか?

EUVのマスクはなぜ反射性があるのですか?

EUV光の波長は13.5nmで、この極めて短い波長はあらゆる材料を通過する際に強く吸収されるため、EUV光を効果的に透過するのに適した透明材料がなく、従来の透過マスクはEUVリソグラフィーには適していません。EUVマスクの構造

上図に示すように、EUVマスクはブラッグ反射原理を利用してEUV光を反射する多層膜構造を採用しており、最大約70％の反射率を実現し、リソグラフィーの精度と効率を向上させます。
反射防止コーティング（ARC）（反射防止コーティング）：レチクル表面の反射を減らし、光吸収の効率を高めます。吸収体：反射されていないEUV光を吸収するリソグラフィパターンの実際の形成層。一般的に、吸収層の材料はTa、TaN、TaBNなどです。Ruキャッピング：多層膜構造を酸化や損傷から保護します。

Mo/Si 多層ミラー (モリブデン/シリコン多層ミラー): LTEM 基板上に、シリコンとモリブデンの 40 ～ 50 層が交互に積層され、ブラッグ反射層として機能し、13.5nm 波長での EUV を最大限に反射します。
低熱膨張材料（LTEM）（低熱膨張材料）：急激な温度変化に対しても寸法変化が最小限で、高い熱安定性を備えたマスク基板材料。

導電性裏面コーティング（導電性裏面コーティング）：通常は窒化クロムで構成されており、静電気の蓄積を減らし、静電保持を容易にします。