シリコン材料の抵抗率と正方形抵抗は同じ意味ですか？

抵抗率は、さまざまな物質の電気特性を表現するために使用される物理的量であり、定義上、材料の本質的な特性.であり、長さ1 mと1m²の断面積で作られた導体の抵抗性は、ω・m（ω} cm）のcm（} cm）の材料の抵抗に数値的に等しくなります。半導体シリコン材料、抵抗率はシリコン内の電子と穴の濃度に関連しており、言い換えれば、シリコン材料.のサイズと形状の影響を受けません。

正方形の抵抗、正方形の抵抗のフルネームは、フィルムの単位面積あたりの抵抗を指し、その値は抵抗率をω/m .四角抵抗器の厚さで割ったものと等しく、正方形の抵抗は、1mmまたは1mm {5} {5}の抵抗に関係なく、任意のサイズの正方形の抵抗を持つというユニークな特性を持っています。アプリケーション.

0040-31980ガスボックスEC WXZ

実際のアプリケーションシナリオでは、2つの違いは、シリコンウェーハまたはシリコンオンインシュレータ（SOI）の場合、さらに重要な.であり、抵抗率は、基本的な電気パラメーター.ウェーフを特徴付けるためにデータシートでよく使用されます。低い、通常10¹²cm⁻³未満であるため、高耐性シリコンウェーハの抵抗率は非常に高くなり、10³- 10⁶cm.の間で、抵抗が高くなるほど、シリコンの純度要件が高く、高抵抗性孔子の製造プロセスは極度に耐えられます。このようなシナリオでアニーリング.の後、抵抗率はシリコンウェーハまたはSOIの全体的な電気性能を直感的に反映します。

0040-09095ガスボックス、wcvd
正方形の抵抗の概念は主に薄膜で提案されており、その出現によりMEMSデバイスの電気設計が容易になりました.は正方形の抵抗が正方形のブロックのようなものであると想像してください。四角抵抗を知っていると、正方形の数をカウントすることで総抵抗を簡単に計算できます（抵抗の長さ）多結晶シリコンまたは注入された単結晶シリコンの設計と製造担当者の間の通信.。注入深度（接合深度）を正確に知る必要さえありません。また、正方形抵抗を測定するだけで回路部品の設計を正常に完了することもできます。
要約すると、シリコン材料の抵抗率と正方形の抵抗はシリコン材料の電気特性に関連していますが、材料自体の固有の抵抗特性に焦点を当てているのは、{2つの概念と製造のために、2つの概念を理解するために、2つの概念を理解するために、2つの概念を理解するために、2つの概念を理解するために、正方形の抵抗器抵抗性に焦点を当てていますが、材料自体の固有の抵抗性に焦点を当てています。シリコン材料の電気的特性と半導体フィールドでの実用的なアプリケーション.